光刻機(jī)NSR-2005 I8A用于集成電路生產(chǎn)中的微光刻工藝。是用來(lái)將掩膜版上形成的集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)投影成像在晶圓表面上。
該機(jī)含有晶圓自動(dòng)傳輸系統(tǒng)、版庫(kù)自動(dòng)管理系統(tǒng)、可編程掩膜版光欄、自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平、晶圓自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、掩膜版自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、鏡頭倍率控制、自動(dòng)光量控制、圖形自動(dòng)優(yōu)化設(shè)計(jì)計(jì)算、故障顯示報(bào)警等功能。
將曝光掩膜版和晶圓分別裝入掩膜版庫(kù)和晶圓傳輸單元后，NSR-2005 I8A型投影光刻機(jī)將按照操作軟件設(shè)定的數(shù)據(jù)格式、工作時(shí)序自動(dòng)完成包括掩膜版、晶圓的交換、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)調(diào)焦、自動(dòng)分步曝光在內(nèi)的工作過(guò)程。
設(shè)備改造后，可以適用 4/6/8 英寸藍(lán)寶石基片的自動(dòng)上片進(jìn)行光刻加工。
參數(shù)屬性
No. 項(xiàng)目 性能指標(biāo) 備注 1 分辨率（Resolution） ≤0. 55 umμm 膠厚 1μm 條件下，達(dá)到或優(yōu)于 0.5μm 為合格 2 焦深（DOF） 0.7μm 分辨率變化10%的z 向范圍。 3 鏡頭畸變（lens distortion） ≤±80nm 4 調(diào)焦重復(fù)性（FocusCalibration Repeatability） 3σ≤120nm 5 曝光面積（Maximum Exposure Area） 20mm×20mm 6 照明光強(qiáng)（Exposure Power） ≥550mw/cm2 換新燈后 30 分鐘 7 照明均勻性（Illumination Uniformity） ≤±1.5％ 8 掩模光欄控制精度（Reticle Blind Setting Accuracy） ＋0.4mm—0.8mm 9 套刻精度（Overlay Accuracy） |M|+3σ≤110nm 10 步進(jìn)重復(fù)精度（Stepping Precision） 3σ≤80nm 11 工作臺(tái)正交性（Array orthogonality） ±0.2 秒 12． 硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)（WaferPre-alignmentrepeatability） ≤±20um 13 硅片傳輸成功率： 99% 100片 14 掩膜傳輸成功率： 99%
二手尼康Nikon翻新現(xiàn)貨 光刻機(jī)NSR-2005 I8A價(jià)格大約80萬(wàn)美金左右，更多詳細(xì)參數(shù)和技術(shù)修改以及方案對(duì)接，請(qǐng)咨詢我們進(jìn)行詳談。
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