立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設(shè)備由進樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機構(gòu)組成，可實現(xiàn)連續(xù)鍍膜，廣泛應(yīng)用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)。矽基具備豐富的工業(yè)級大尺寸設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗，目前在廣東及北京地區(qū)均有線性連續(xù)磁控濺射設(shè)備銷售實績。

技術(shù)參數(shù)：

1 本底真空10^-7 Torr；

2 基片尺寸：490x390 mm (玻璃基片)；

3 基片直立傳送，傳送速度可調(diào)節(jié)；

4 基片可加熱至400℃；

5 濺鍍室數(shù)量可自由拓展；

6 20英寸基片內(nèi)鍍膜均勻性優(yōu)于 ±3%；