矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機采用國際UHV配件及金屬密封件，本底真空可達(dá)到10^-9 ~ 10^-10 Torr量級。在超高真空環(huán)境下制備出的薄膜材料含氧量低、晶粒性更為明顯，廣泛適用于超導(dǎo)結(jié)、量子器件和自旋電子學(xué)的研究開發(fā)。

技術(shù)參數(shù)：

1 本底真空可達(dá)10^-9 ~ 10^-10 Torr；

2 單基片設(shè)計，尺寸可定制；

3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/500℃/800℃；

4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍，共濺射；

5 靶槍角度可調(diào)，濺鍍距離可調(diào)，可升級強磁靶；

6 防交叉污染隔板設(shè)計；

7 可配備離子束輔助沉積；

8 可配備樣品預(yù)清洗功能；

9 可配備快速進樣室；

10 可配備自動壓力控制系統(tǒng)；