OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三溫區(qū)1500℃的PECVD管式爐系統(tǒng)，它是由500W的射頻電源，1500℃三溫區(qū)管式爐、多通道質(zhì)子混氣系統(tǒng)...

為使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，常利用等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，這種方法稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積法（PECVD）

OTF-1200X-II-PE-RRW是一款等離子增強卷對卷線材連續(xù)制備系統(tǒng)，可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中，如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處理等應(yīng)用中

OTF-1200X-II-4CV-PE-SL是一款滑動式雙溫區(qū)PECVD管式爐系統(tǒng)

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉(zhuǎn)樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜...

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體...

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化...

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空...

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜...

VTC-16-PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成

GSL-1350-ISE是一款溫控型可插入式蒸發(fā)儀，適用于蒸發(fā)各種金屬和有機材料，其溫度可達(dá)1350℃

GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料

VFA-CVM是一款真空閃蒸裝備，專門針對于客戶DIY真空閃蒸液相法制備薄膜

超聲波噴霧器是利用超聲波的能量打破液體形成幾微米的顆粒大小,超聲噴嘴可以使用較低的振動能量通過重力、低壓空氣使液體霧化

DC-3000是一款高速靜電紡絲輥筒收集裝置，輥筒旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)，轉(zhuǎn)速可達(dá)4700rpm，標(biāo)配不銹鋼輥筒收集器的尺寸為φ76mm*200mmL，通過不同的直徑/長...

DC-80是一款靜電紡絲輥筒收集裝置，不銹鋼輥筒收集器的尺寸為φ80mm*200mmL，輥筒旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)，速度范圍為100-00rpm，通過不同的直徑/長度比，...

MD-300是一款靜電紡絲往復(fù)機構(gòu)，配備6孔噴頭夾具，最多可同時放置6個紡絲噴頭，夾具運動距離可調(diào)，從而可與收集裝置進(jìn)行靈活的配套使用，可用于DIY構(gòu)建靜電紡絲...

MSK-ESDC-3000是一款分體式靜電紡絲高速收絲系統(tǒng)，由4700rpm高速電動收絲筒DC-3000和往復(fù)機構(gòu)MD-300兩部分組成，使用時，通過不同的直徑...

MSK-NFES-4靜電紡絲納米纖維制備系統(tǒng)是一個完整的納米纖維制備系統(tǒng)，或者說是一個完整的靜電紡絲涂覆系統(tǒng)（或電噴鍍）