OTF-1200X-80-II-F3LV是一款通過CE認(rèn)證的雙溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)

OTF-1200X-S25-II-SL是一款小型雙溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)

GSL-1100X-III-D11-8是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)雙管管式爐

OTF-1200X-II-PE-RR是一套卷對卷石墨烯制備管式爐系統(tǒng)，設(shè)備由卷對卷銅箔收放密封裝置、500W等離子源、1200℃雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)子流量計控制...

TF-1200X-4-C4LVS雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究

OTF-1200X-III-HVC是由OTF-1200X-III三溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成

OTF-1200X-80-I-F3LV是一款通過CE認(rèn)證的單溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)

GSL-1700X-F3LV是一款CE認(rèn)證的管式爐CVD系統(tǒng)，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng)，溫度可以達(dá)到1700°C，真空度可達(dá)到5x10...

OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機械泵，它是由管式爐，三路浮子流量供氣系統(tǒng)組成，其真空度...

GSL-1700X-III-F3LV是一款通過CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵，混氣系統(tǒng)為3路浮子混氣系統(tǒng)

OTF-1200X-4-III-9HV是一款CE認(rèn)證的九通道高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，齊爐管直徑為4英寸，它是由九通道質(zhì)量流量控制器和高真空機組組成，其溫度可達(dá)1...

ALD-GSL-4是一套2通道ALD控制系統(tǒng)，包含4通道質(zhì)子流量計進(jìn)行氣體的混合和輸送，可與本公司任意管式爐或腔體進(jìn)行DIY，組建一套ALD系統(tǒng)，用于薄膜的制備...

OTF-1200X-5-III-SF是經(jīng)過CE認(rèn)證的分體式5“（OD）三區(qū)管式爐，可以通過調(diào)節(jié)三區(qū)溫度實現(xiàn)更快的加熱至1200℃并產(chǎn)生不同的熱梯度

GSL-1700X-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，其工作溫度可達(dá)1600℃，極限真空度可達(dá)to10^-5...

OTF-1200X-HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成

OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐

OTF-1200X-III-HPCVD-SE是一款HPCVD（物理/化學(xué)混合氣相沉積）系統(tǒng)，帶有的原料推進(jìn)系統(tǒng)和1350℃原位蒸發(fā)槍

OTF-1200X-5-III-D4是一款三溫區(qū)的雙管爐，其工作溫度可以達(dá)到1200℃，專門針對于用CVD方法在金屬箔上生長薄膜物質(zhì)，如石墨烯、太陽能電池的電極...

OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐，是一款通過CE認(rèn)證的可開啟式管式爐，能使樣品加熱到1200℃