PECVD系統(tǒng)由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統(tǒng)組成。
結構特點：
1、（可選配）高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，額定真空可達0.0001Pa；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現(xiàn)負壓的精準控制；
3、 通過射頻電源實現(xiàn)輝光放電等方法，產生等離子體；
4、數字質量流量控制系統(tǒng)是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。
5、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；
6、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。
PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單。
主要技術參數：
| 電爐型號 | SGMT-1200F-60-PECVD |
| 爐體結構 | 雙層殼體結構，配有風冷系統(tǒng) |
| 爐膛材質 | 真空吸附成型的優(yōu)質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好 |
| 爐管材質 | 高純石英管；可選外徑Φ40/50/60/80/100*1200/1500mm |
| 密封法蘭 | 不銹鋼快速擠壓密封法蘭 |
| 溫控系統(tǒng) | 溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降 溫程序；控溫精度±1℃ |
| 顯示模式 | 儀表面板顯示 |
| 加熱元件 | 優(yōu)質電阻絲0Cr27Al7Mo2 |
| 測溫元件 | K型熱電偶（可選購增加內置熱電偶，實時監(jiān)測加熱物料溫度） |
| 使用溫度 | 額定溫度1200℃，連續(xù)工作溫度≤1150℃ |
| 升溫速度 | 推薦≤10℃/min，*快升溫速度30℃/min |
| 降溫速度 | 700℃以上≤10℃/min |
| 恒溫區(qū) | 加熱區(qū)長度440mm，恒溫區(qū)200mm |
| 真空范圍 | 0.1-0.001Pa |
| 極限真空 | 4、0*10^-4Pa |
| 電爐配置 | 雙級旋片真空泵+分子泵 |
| 測量方式 | 復合真空計 |
| 真空規(guī)管 | 電阻規(guī)+電離規(guī) |
| 射頻電源 | 電源：單相50/60Hz 220v±10% |
| 射頻電源 | 加熱（功率）電源：2、5KW，25A |
| 射頻電源 | 控制柜電源空氣開關：32A空氣開關 |
| 射頻電源 | 薄膜生長室溫度：室溫~ 1200℃ |
| 射頻電源 | 射頻頻率：13、56MHz |
| 射頻電源 | 射頻功率輸出范圍：5~500W |
| 質量流量計 | 控制方式：質量流量計,流量顯示儀（七星華創(chuàng)、美國Omega、日本Horiba） |
| 質量流量計 | 流量規(guī)格0－500SCCM /0－1SLM,（可根據客戶需要配置） |
| 質量流量計 | 線性±1%F.S |
| 質量流量計 | 準確度±1%F.S |
| 質量流量計 | 重復精度±0.2%F.S. |
| 質量流量計 | 響應時間≤2sec |
| 質量流量計 | 耐壓3MPa |
| 質量流量計 | 氣路通道雙通道（根據客戶需求） |
| 機器電源 | AC220V，50/60Hz；額定功率4kw |
| 執(zhí)行標準 | GB/T 10066、1-2004、GB/T 10067、4-2005 |
| 標準配置 | 主機1臺，密封法蘭1套，“O"型圈4個，石英管1根，管堵4個，坩堝鉤1把， 說明書、合格證、保修卡各1份 |
| 可選混氣 | 多通道浮子、質量混氣系統(tǒng) |
| 選購件 | 爐架，各種石英、剛玉坩堝，石英管，高溫手套，計算機控制軟件，無紙記錄儀等。 |
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