概述
此套系統(tǒng)H-CVD-1200S前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發(fā)器，輔助固體源蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)硫化爐，溫度控制*，操作簡便。左端配有法蘭支撐架可將預(yù)熱器和硫化爐分開使用。右端可配氣氛微調(diào)裝置，可以準(zhǔn)確的反應(yīng)爐體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常實(shí)用，重復(fù)性好；真空機(jī)組裝有真空粉塵過濾器以保護(hù)機(jī)械式真空泵不被硫粉塵損壞。整套系統(tǒng)可在1200℃以下的工藝溫度穩(wěn)定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。
設(shè)備組成
HTF-1100蒸發(fā)器，HTF-1200D雙溫區(qū)管式爐(蒸發(fā)器與高溫反應(yīng)區(qū)采用一體式)。
主要技術(shù)參數(shù)
蒸發(fā)器 | 型號：HTF-1100 工作溫度：室溫-1000℃ 額定溫度：1050℃ *快升溫速率：30℃/min 推薦升溫速率：10℃/min 控溫方式：智能化30段可編程控制 工作電壓：AC220V 額定功率：1000W 控溫精度：±1℃ 加熱元件：電阻絲 加熱區(qū)長度（mm）：150mm |
雙溫區(qū)硫化爐 | 型號：HTF-1200D 技術(shù)參數(shù)： 額定功率(KW):3 額定電壓(V):AC220v50/60Hz 額定溫度(℃):1200（1hour） 持續(xù)工作溫度(℃）：1100 升溫速率（℃/min）：≤50 爐管尺寸（mm）： 高純石英管Φ50×1500mm 加熱區(qū)長度（mm）：150/300mm 恒溫區(qū)長度（mm）:100/120mm 控溫方式:模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能 控溫精度(℃):±1 加熱元件:電阻絲 |
配件 | 配真空粉塵過濾器，DN25手動蝶閥用于控制爐管內(nèi)壓力，防腐型數(shù)顯真空計，三路混氣系統(tǒng)（可選） |
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