小型紫外臭氧清洗機-PCE-44 （2019.12.2—科晶實驗室審核）

1、多種配件可選提示  2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備  3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/strong>  4、配件妥善保管提示

體積小，重量輕。

去除分子級別的污染物。

·紫外光固化粘合劑。

·紫外光催化。

·氧化PDMS。

·表面消毒。

·刻蝕。

·清洗MEMS 器件。

·清洗各種基片，如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片。

·僅室內(nèi)使用; 海拔高度在1695米以內(nèi)。

·溫度范圍5-40℃。

·相對濕度80％，30.5℃，30.5℃線性降至50％相對濕度。

·主電源波動不超過標稱電壓的10％。

·污染等級2; 臭氧水平（環(huán)境）測量<45>

         操作視頻

電源：220V 50/60HZ

總功率：40W

照射時間設(shè)定0-60min

更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部

腔體：·抽拉盒尺寸: 140mm*132mm*20mm

      ·標配高純石英片用于盛放樣品，避免污染

紫外燈：UV燈管

·功率：30W

·發(fā)出光的波長：波長254nm+185nm

·使用壽命：6000h小時

·照射區(qū)域：100 x 100 mm

·光照強度：4.6 mw/cm2

240mm*200mm*165mm

4KG

若客戶出認證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證。

一年保修，終身技術(shù)支持。

特別提示：

1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。