? 采用氣體作為清洗介質(zhì)，避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。

? 可短時間內(nèi)清洗掉有機污染物。

? 清洗程度可達到分子級。

? 可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

? 清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。

? 樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。

? 廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

? 電壓：AC220V  10A

? 消耗功率：<>

? RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz

? 腔體：Φ190mm×98mm

? 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm

? 內(nèi)腔：Φ165mm×55mm

? 清洗電極：Φ120mm

? 樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm

? 樣品臺與電極間距：15mm-50mm可調(diào)

? 抽氣管：Φ12mm

? 極限真空度：0.1Pa

? 工作真空度：60Pa-500Pa

? 氣路數(shù)量：2路（選裝）

? 流量控制器數(shù)量：1、2

? 氣路接口：Φ6mm

? 加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）

? 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa

? 工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<>

? 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）

? 重量：20kg（不含真空泵）

? 加熱樣品臺

? 流量控制器（量程10、50、100，最多可增加2個通道）